型号：XDT-4150S
化合物半导体用曝光装置
XDT-4150S 化合物半导体用曝光装置，把涂有光刻胶的基板与掩膜重叠，光刻图形的曝光装置。为了实现多层曝光时的自动对位，装配有显微镜和X・Y・θ对位台。自动进行基板的供给、对位、曝光、排出。
产品特色
▶ 采用独自的平行调整机构,能够高精度地设定掩膜与Wafer间的近接间隙。
▶ 利用独自的高速图像处理技术,实现高精度的对位。
▶ 利用图像处理技术,使预对位可对应薄型基板或翘曲基板及水晶等易碎Wafer(选购项)。
▶利用独自的接触压力精密控制机构,能够使Wafer与掩膜高精度地接触。
▶通过Wafer的背面真空吸着方式,实现高速度和高精度以及稳定的自动搬送。
外形尺寸
