型号：XD-MD8
转台双面光刻机
主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件、薄膜电路的研制和生产。
工作方式：本机采用板—板对准双面同时曝光方式，亦可用于单面曝光。
主要构成：主要由双工位高精度对准旋转工作台，Z轴升降机构，2CCD实时对准检测，2台多点UVLED光源蝇眼式曝光头，真空吸片机构等组成。
产品特色
▶适用范围广
适用于8寸以下，厚度5mm以下的各种基片(包括非圆形基片)的对准曝光。
▶结构先进
Z轴采用滚珠直进式导轨和可实现软接触的真空密着机构，真空吸版，防粘片机构。
▶操作简便
双工位高精度旋转平台，Z轴升降，吸片均采用自动方式；格板采用真空吸附，操作、调试、维护、修理都非常简便。
▶可靠性高
采用进口电磁阀、按钮、定时器；采用独特的气动系统、真空管路系统和精密的零件加工，使本机具有非常高的可靠性。
▶分辨率高
采用高均匀性的多点光源（蝇眼）曝光头，非常理想的三点找平机构和稳定可靠的真空密着装置，使本机的曝光分辨率大为提高。
▶套刻精度高、速度快
采用片真空吸附在下格板上，上格板与下格板高精度对准，人工放片时2CCD可确保对位精度数值在对准范围内，升降采用无间隙滚珠直进导轨、气动式Z轴升降机构，使本机片对版在分离接触时漂移特小，对准精度高，对准速度快，从而提高了版的复用率和产品的成品率。
▶可靠性高
采用PLC控制、进口电磁阀和按钮、独特的气动系统、真空管路系统和经过精密机械制造工艺加工的零件，使本机具有非常高的可靠性且操作、维护、维修简便。
外形尺寸
